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當(dāng)前產(chǎn)品佛山手機(jī)面板真空鍍膜機(jī)

佛山手機(jī)面板真空鍍膜機(jī)

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱佛山市金欣盛真空設(shè)備有限公司
品牌
型號(hào)
所在地佛山市
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2024/11/11 7:45:13
訪問次數(shù)11

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產(chǎn)品詳情

佛山市金欣盛真空設(shè)備有限公司是一家真空鍍膜設(shè)備，真空鍍膜機(jī)器制造、設(shè)計(jì)、應(yīng)用的技術(shù)型廠家。公司位于環(huán)境優(yōu)美的佛山市。

      佛山市金欣盛真空設(shè)備有限公司集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體。具有優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)團(tuán)隊(duì)，公司目前擁有在職教授一名，參與過國產(chǎn)臺(tái)多弧離子鍍膜機(jī)、真空離子注入設(shè)備的設(shè)計(jì)與生產(chǎn)，曾經(jīng)支持過國內(nèi)外多家鍍膜設(shè)備企業(yè)及生產(chǎn)企業(yè)的創(chuàng)辦。高、中級(jí)以上專業(yè)技術(shù)職稱人員多名，專門指導(dǎo)和負(fù)責(zé)公司真空鍍膜機(jī)新產(chǎn)品研發(fā)與設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)概念，科技技術(shù)，確保真空設(shè)備產(chǎn)品高品質(zhì)、高水準(zhǔn)。
      本公司先后開發(fā)出的鍍膜工藝，為鍍膜生產(chǎn)企業(yè)的發(fā)展，提供了有力的技術(shù)支持，得到了廣大客戶高度贊譽(yù)。特別近幾年來，隨著真空鍍膜技術(shù)的進(jìn)步，公司重點(diǎn)發(fā)展連續(xù)式磁控鍍膜生產(chǎn)線及離子鍍膜技術(shù)，包括非平衡磁控、中頻磁控濺射、多弧離子鍍、離子源輔助鍍膜和多種技術(shù)功能的結(jié)合，同時(shí)結(jié)合各大高校研究所，對新材料與鍍膜工藝的不斷摸索開發(fā)，設(shè)備設(shè)計(jì)與工藝精益求精，開發(fā)出新一代的工藝解決方案和真空鍍膜設(shè)備，鍍膜水平得到了極大的進(jìn)步。
      本公司生產(chǎn)的真空鍍膜設(shè)備系列：多弧離子鍍膜設(shè)備，中頻磁控真空鍍膜設(shè)備，蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備，電子槍鍍膜設(shè)備，工具專用鍍膜設(shè)備，黃金管專用鍍膜機(jī)，連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線等真空鍍膜設(shè)備。各類真空電鍍設(shè)備廣泛用于光學(xué)、燈管、電子、陶瓷、玻璃、馬賽克、建材、五金、刀具、工模具、鐘表、醫(yī)療、汽車、航天等高科技產(chǎn)業(yè)方面，已成功地為客戶開發(fā)滿足各種不同要求的鍍膜工藝方案。
      寧可不做設(shè)備，也不糊弄客戶，本著及時(shí)專業(yè)、全面主動(dòng)的經(jīng)營理念，發(fā)揮技術(shù)、堅(jiān)持創(chuàng)新的企業(yè)宗旨，用品質(zhì)和服務(wù)回報(bào)客戶。站在客戶的角度思考問題，為客戶節(jié)約每一點(diǎn)一滴，也是我公司制造綠色環(huán)保真空鍍膜設(shè)備的目標(biāo)，竭誠為您提供優(yōu)質(zhì)的真空鍍膜設(shè)備。
辦公環(huán)境
設(shè)備參數(shù)
以下數(shù)值僅供參考

性能型號(hào)		JXS-CSV-0606	JXS-CSV-1010	JXS-CSV-1312	JXS-CSV-1612	JXS-CSV-1812
鍍膜室尺寸		Ф600×H600mm	Ф1000×H1000mm	Ф1300×H1200mm	Ф1600×H1200mm	Ф1800×H1200mm
用于行業(yè)		鐘表行業(yè)、3C行業(yè)、五金行業(yè)、精密模具業(yè)、工具行業(yè)等
用于產(chǎn)品		手表、手機(jī)殼、介子、眼鏡架、五金、潔具、餐具及刀具、模具等
鍍膜效果		Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。
真空室結(jié)構(gòu)		立式前開門結(jié)構(gòu)配置抽氣系統(tǒng)及水冷系統(tǒng)
真空獲得系統(tǒng)	分子泵	≥2500（L/s）	≥2500（L/s）	≥3600（L/s）	≥7200（L/s）	≥10800（L/s）
	羅茨泵	≥150（L/s）	≥150（L/s）	≥1200（L/s）	≥1200（L/s）	≥1200（L/s）
	機(jī)械泵	≥70（L/s）	≥70（L/s）	≥210（L/s）	≥210（L/s）	≥210（L/s）
	維持泵	≥8（L/s）	≥15（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）	≥30（L/s）
	備注	可根據(jù)客戶的要求進(jìn)行配置
真空測量系統(tǒng)		薄膜規(guī)(MKS)、冷陰極(MKS)、皮拉尼(MKS)
電源類型		直流電源、中頻電源、脈沖電源
極限真空指標(biāo)		空載冷態(tài) 1.0一 6.0×10-4Pa
電弧源		≥4臺(tái)	≥6臺(tái)	≥8臺(tái)	≥10臺(tái)	≥12臺(tái)
		≥200A	≥200A	≥200A	≥200A	≥200A
偏壓電源		≥10KW	≥10KW	≥20KW	≥20KW	≥30KW
磁控電源		≥1	≥1	≥2	≥2	≥2
工件轉(zhuǎn)動(dòng)方式		多軸行星式公自轉(zhuǎn)、變頻調(diào)速（可控可調(diào)）
工件烘烤溫度		常溫-300℃至450℃-600℃可控可調(diào)（PID溫控）
工藝氣體		3路或4路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng)選配自動(dòng)加氣系統(tǒng)
		氬氣、氮?dú)?、氧氣、乙炔?/td>
冷卻方式		水冷卻循環(huán)方式，另配工業(yè)冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)（制冷機(jī))或深冷系統(tǒng)。（客戶提供）
控制方式		PLC+觸摸屏操作或計(jì)算機(jī)控制，手動(dòng)、半自動(dòng)、自動(dòng)方式、
供給指標(biāo)		氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa、
報(bào)警及保護(hù)		對泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施及電氣聯(lián)鎖功能。
整機(jī)總功率		≤65KW	≤65KW	≤85KW	≤105KW	≤125KW
輸出頻率		電壓380V±5% ，頻率50Hz（可根據(jù)客戶國家用電標(biāo)準(zhǔn)配置）
設(shè)備占地面積		≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2	≤55m2
備注		可根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)制造非標(biāo)設(shè)備，可加裝磁控濺射靶、中頻孿生對靶等。

設(shè)備制作流程

生產(chǎn)環(huán)境
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服務(wù)承諾
48小時(shí)-恢復(fù)的

榮譽(yù)證書

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應(yīng)用領(lǐng)域
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馬賽克2

磁控濺射原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用（ E X B drift）使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓，那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射，多弧鍍靶源，離子源，等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向，電壓電流大小而已。